无机异物分析

无机异物分析是指针对产品表面的无机异物，根据异物的形态、检测深度及检测面积等差异而选用特定的仪器，对其无机成分进行分析，测定其中元素成分及含量，进而分析组成的一种分析方法。相较与有机异物，无机异物则表现出质地更硬，色泽更深，且较不透光等特点。无机异物的分析手段主要有以下几种：

扫描电子显微镜&X射线能谱SEM/EDS，常用于表面微观形貌观察；微米级尺寸量测；微区成分分析；污染物分析，能快速的对各种试样的微区内Be~U的大部分元素进行定性、定量分析，分析时间短。

参考标准：JY/T 010-1996 GB/T 17359-2012

飞行时间二次离子质谱TOF-SIMS，常用于有机材料和无机材料的表面微量分析；表面离子成像；深度剖面分析。其优异的掺杂剂和杂质检测灵敏度可以检测到ppm或更低的浓度；深度剖析具有良好的检测限制和深度辨析率；小面积分析。

参考标准：ASTM E1078-2009，ASTM E1504-2011，ASTM E1829-2009

动态二次离子质谱D-SIMS，常用于产品表面微小的异物分析；氧化膜厚度分析；掺杂元素的含量测定。其分析区域小，能分析≥10μm直径的异物成分；分析深度浅，可测量≥1nm样品；检出限高，一般是ppm-ppb级别。

参考标准：ASTM E1078-2009，ASTM E1504-2011，ASTM E1829-2009

俄歇电子能谱AES，常用于缺陷分析；颗粒分析；深度剖面分析；薄膜成分分析。可以作表面微区的分析，并且可以从荧光屏上直接获得俄歇元素像。

参考标准：GB/T 26533-2011

X射线光电子能谱XPS，常用于有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析；表面成分及化学状态信息；深度剖面分析。其分析层薄，分析元素广，可以分析样品表面1-12nm的元素和元素含量。

参考标准：GB/T 30704-2014